2016-818
工業(yè)CT的3D成像系統(tǒng)的成像方法目前工業(yè)無損立體3D檢測多采用類似醫(yī)用CT的形式，物品放在傳送裝置上，線陣探測器和球管在物品的上下旋轉一定角度（如2度）拍一幅二維X光片旋轉一周后對拍攝的180幅二維X光片進行數(shù)據(jù)重建處理，得到該物品一幅一定厚度（如1毫米）的切片圖像，物體往前移動一定距離（如2毫米），再進行以上旋轉拍片，得到該位置的X光切片圖像，依次不斷物品前移拍片得到一定長度L（如10厘米）的一系列切片圖像（即沿物體徑向方向的切片圖像），利用這組圖像數(shù)據(jù)，可以制作出長度為L...
查看更多2016-810
鑄件工業(yè)CT三維檢測技術1、鑄件檢測的特點鑄件現(xiàn)廣泛應用在航空、航天領域，包括鋁合金、鎂合鈦合金和高溫合金等。同鑄造和毛坯加工形成工件相比，鑄件成本低，且能形成非常復雜的形狀，這是加工技術難以做到的。大部分鑄件中都有缺陷，有些甚至很嚴重以致影響到整個鑄件的性能。因此必須進行無損檢測以保證其質量。對于鑄件的內部質量檢測，已成熟且常規(guī)的方法是膠片射線照相法。通常能發(fā)現(xiàn)的鑄件內部缺陷包括縮松、縮孔、氣泡及夾雜等。根據(jù)射線照相結果對鑄件的內部缺陷進行分級，做出合格或不合格的判定。但對...
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DR平板探測器常識——非晶硒和非晶硅平板探測器的區(qū)別在數(shù)字化攝片中，X線能量轉換成電信號是通過平板探測器來實現(xiàn)的，所以平板探測器的特性會對DR圖像質量產生比較大的影響。選擇DR必然要考慮到平板探測器的選擇。平板探測器的性能指標會對圖像產生很大的影響，醫(yī)院也應當根據(jù)實際需要選擇適合自己的平板探測器。DR平板探測器可以分為兩種：非晶硒平板探測器和非晶硅平板探測器，從能量轉換的方式來看，前者屬于直接轉換平板探測器，后者屬于間接轉換平板探測器。非晶硒平板探測器主要由非晶硒層TFT構成...
查看更多2016-722
x射線晶體定向衍射技術X射線衍射法是測定蛋白質晶體結構的極其重要方法。生物大分子X射線晶體學是揭示分子結構與功能的科學。目前還沒有一種工具能夠用它直接觀察到蛋白質內部的原子和基團的排列。雖然電子顯微鏡接近于看到大分子的輪廓。但是仍然于揭露分子的大小、形狀、對稱性和聚集狀態(tài)等。通過X射線衍射法(X-raydiffractionmethod)可間接地研究蛋白質晶體的空間結構。對晶體結構的研究將幫助人們從原子的水平上了解物質。1、X射線晶體衍射技術的建立及發(fā)展1895年，倫琴(Ro...
查看更多2016-711
工業(yè)X射線探傷機在室內探傷的輻射防護問題工業(yè)X射線探傷機是對工業(yè)金屬焊接過程中，對鍋爐容器金屬焊縫進行無損檢測，以保證產品質量和安全生產。同時利用建設X射線探傷室，對探傷室進行輻射防護，從而達到對輻射探傷操作人員的保護。焊縫探傷在探傷室中國家標準要求《工業(yè)X射線探傷衛(wèi)生防護標準》(GBZ117-2006)4.1.1中規(guī)定“探傷室的設置應充分考慮周圍的放射安全，操作室應與探傷室分開并避開有用線束照射的方向?！?.1.2中規(guī)定“屏蔽設計應充分考慮有用線束照射的方向和范圍、裝置的工...
查看更多2016-621
探傷機的用途探傷機作為新時代、新科技所誕生出來的產品，自誕生以來一直都備受矚目。在科技飛速發(fā)展的大時代，不管是航空還是航海等各個領域，都出現(xiàn)了各種大型的工作工具和各種使用器具，而作為工業(yè)化發(fā)展的產物，在這些機械領域發(fā)展的背后，一定是要有一個支持著各種先進儀器運作的設備，這個就是探傷機。非工業(yè)行業(yè)領域的人，對探傷機并不是非常的了解，其實探傷機與工業(yè)工作環(huán)境息息相關。在很多工業(yè)領域中，探傷機是*的重要工具。如在造船業(yè)，航天業(yè)和交通建筑等各種行業(yè)領域中，都能見到探傷機忙碌的影子。探...
查看更多2015-1223
鋁鑄件應用廣泛，質量要求也隨之增高，X射線檢測成為鋁鑄件生產廠家的檢測方式。鋁鑄件廣泛的應用于汽車零部件、機械制造、計算機、電子、醫(yī)療器械、鐘表儀器、五金產品、航空航天等行業(yè)。主要是因為鋁鑄件外表光滑、實用性高、尺寸等。一般鑄件生產工藝主要為：選擇材料-熔煉-低壓鑄造-X-ray檢查-清理、噴砂、去毛刺-熱處理-機械加工-表面處理，但往往成品的鑄件存在太多的缺陷，主要原因是：夾雜：由于技術工人操作不當、爐子里面的選料不干凈，一般分布在鑄件連接處，看起來發(fā)黃呈現(xiàn)灰白色。氣孔：在...
查看更多2015-1216
Monoblock一體化射線源技術特點出射線角度范圍。非準直X射線光束形成Ω角度的錐形。陽極層的厚度為150微米，Ω的典型值是125°。輻射光譜。射線源的原發(fā)射光譜主要取決于陽極材料和電壓值。它包含強烈的典型線條和連續(xù)的軔致輻射。光譜的軟射線部分能量低于5KV，也取決于陽極層的厚度和X射線光束輸出角度。典型的發(fā)射光譜與鉬陽極，通過半導體硅光譜儀獲得展示如下圖所示。陽極類型-透射式陽極層材料：金剛石，鈹陽極材料：銅，鉬，銀，鎢焦點尺寸：陽極30微米運行電壓10-40kV功率：5...
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